Giữa lúc mọi người còn mải bàn tán và đánh giá những thiết bị công nghệ mới, thì một động thái từ phía Nhật Bản lại đang có khả năng thay đổi toàn bộ thị trường bán dẫn, ngành công nghiệp tạo ra chính những thiết bị các anh chị em sử dụng hàng ngày.
Canon vừa giới thiệu cỗ máy tên là FPA-1200NZ2C, một hệ thống khắc nanoimprint, với khả năng tạo ra những wafer silicon với các die chip bán dẫn, hay những linh kiện bán dẫn ứng dụng tiến trình gia công mới nhất. Với việc ứng dụng công nghệ nanoimprint, khả năng mà cỗ máy Canon vừa giới thiệu không hề thua kém những giải pháp tương tự từ các tập đoàn khác, ASML là ví dụ điển hình, nhưng tiêu thụ điện năng của cỗ máy người Nhật tạo ra thấp hơn nhiều.
Nanoimprint khác quang khắc thạch bản truyền thống như thế nào? Máy gia công chip bán dẫn của Canon không cần tới cơ chế quang học để chuyển thiết kế mạch bán dẫn lên tấm wafer silicon đã qua xử lý hóa chất. Thay vì dùng tia cực tím DUV hay EUV, máy khắc nanoimprint của Canon chỉ cần thực hiện một bước dập lớp mask với thiết kế và bố cục transistor cũng như mạch bán dẫn lên tấm wafer.
Canon FPA-1200NZ2C hiện tại thừa đủ khả năng gia công chip xử lý với đường ngang tối thiểu (minimum linewidth) 14nm, tức là thông số của tiến trình gia công bán dẫn 5nm hiện tại, đủ để tạo ra những chip xử lý cao cấp. Canon kỳ vọng ở khả năng tối đa của hệ thống này, máy có thể khắc được những wafer silicon với đường ngang tối thiểu 10nm, tức là tiêu chuẩn của tiến trình gia công bán dẫn 2nm.
Để giảm thiểu tình trạng tạp chất rơi vào những transistor siêu nhỏ trên bề mặt wafer, máy có hệ thống quản lý môi trường bên trong cỗ máy. Và như đã nói, vì không cần những hệ thống quang học để thực hiện quá trình khắc thạch bản wafer silicon để làm chip bán dẫn như những hệ thống EUV hay DUV đắt tiền của ASML, tiêu thụ điện năng của máy gia công bán dẫn Canon giới thiệu thấp hơn rất nhiều.
Và cũng nhờ hệ thống quản lý môi trường bên trong máy khắc, nên tỷ lệ chip đạt chuẩn khi sản xuất bằng hệ thống máy của Canon cũng sẽ ở mức cao. Theo tập đoàn Nhật Bản, cỗ máy của họ đủ khả năng làm ra nhiều sản phẩm cần độ chính xác cao, từ những lăng kính metalens phức tạp nhưng có khả năng khuếch đại ánh sáng và triệt tiêu quang sai cho công nghệ thực tế ảo và thực tế trộn, cho tới những chip bán dẫn phục vụ cho nhiều ngành nghề.
Cũng phải khẳng định, công nghệ nanoimprint không mới, nó đã tồn tại hơn 20 năm, theo lời chủ tịch viện nghiên cứu Takshashila, Pranay Kotasthane. Nhưng công nghệ này không có được sự quan tâm đúng mực vì dù rẻ hơn, ban đầu nanoimprint lithography tạo ra những sản phẩm với chất lượng thấp hơn hẳn so với quang khắc thạch bản, thứ mà ASML đang thống trị thị trường. Nhưng bất chấp điều đó, Canon vẫn bỏ ra gần 20 năm, làm việc từ năm 2004 để làm chủ công nghệ khắc bán dẫn nano, với ý tưởng là tạo ra một giải pháp rẻ hơn rất nhiều để các hãng có thể sản xuất chip bán dẫn.
Theo Techspot
Canon vừa giới thiệu cỗ máy tên là FPA-1200NZ2C, một hệ thống khắc nanoimprint, với khả năng tạo ra những wafer silicon với các die chip bán dẫn, hay những linh kiện bán dẫn ứng dụng tiến trình gia công mới nhất. Với việc ứng dụng công nghệ nanoimprint, khả năng mà cỗ máy Canon vừa giới thiệu không hề thua kém những giải pháp tương tự từ các tập đoàn khác, ASML là ví dụ điển hình, nhưng tiêu thụ điện năng của cỗ máy người Nhật tạo ra thấp hơn nhiều.
Nanoimprint khác quang khắc thạch bản truyền thống như thế nào? Máy gia công chip bán dẫn của Canon không cần tới cơ chế quang học để chuyển thiết kế mạch bán dẫn lên tấm wafer silicon đã qua xử lý hóa chất. Thay vì dùng tia cực tím DUV hay EUV, máy khắc nanoimprint của Canon chỉ cần thực hiện một bước dập lớp mask với thiết kế và bố cục transistor cũng như mạch bán dẫn lên tấm wafer.
Canon FPA-1200NZ2C hiện tại thừa đủ khả năng gia công chip xử lý với đường ngang tối thiểu (minimum linewidth) 14nm, tức là thông số của tiến trình gia công bán dẫn 5nm hiện tại, đủ để tạo ra những chip xử lý cao cấp. Canon kỳ vọng ở khả năng tối đa của hệ thống này, máy có thể khắc được những wafer silicon với đường ngang tối thiểu 10nm, tức là tiêu chuẩn của tiến trình gia công bán dẫn 2nm.
Để giảm thiểu tình trạng tạp chất rơi vào những transistor siêu nhỏ trên bề mặt wafer, máy có hệ thống quản lý môi trường bên trong cỗ máy. Và như đã nói, vì không cần những hệ thống quang học để thực hiện quá trình khắc thạch bản wafer silicon để làm chip bán dẫn như những hệ thống EUV hay DUV đắt tiền của ASML, tiêu thụ điện năng của máy gia công bán dẫn Canon giới thiệu thấp hơn rất nhiều.
Và cũng nhờ hệ thống quản lý môi trường bên trong máy khắc, nên tỷ lệ chip đạt chuẩn khi sản xuất bằng hệ thống máy của Canon cũng sẽ ở mức cao. Theo tập đoàn Nhật Bản, cỗ máy của họ đủ khả năng làm ra nhiều sản phẩm cần độ chính xác cao, từ những lăng kính metalens phức tạp nhưng có khả năng khuếch đại ánh sáng và triệt tiêu quang sai cho công nghệ thực tế ảo và thực tế trộn, cho tới những chip bán dẫn phục vụ cho nhiều ngành nghề.
Cũng phải khẳng định, công nghệ nanoimprint không mới, nó đã tồn tại hơn 20 năm, theo lời chủ tịch viện nghiên cứu Takshashila, Pranay Kotasthane. Nhưng công nghệ này không có được sự quan tâm đúng mực vì dù rẻ hơn, ban đầu nanoimprint lithography tạo ra những sản phẩm với chất lượng thấp hơn hẳn so với quang khắc thạch bản, thứ mà ASML đang thống trị thị trường. Nhưng bất chấp điều đó, Canon vẫn bỏ ra gần 20 năm, làm việc từ năm 2004 để làm chủ công nghệ khắc bán dẫn nano, với ý tưởng là tạo ra một giải pháp rẻ hơn rất nhiều để các hãng có thể sản xuất chip bán dẫn.
Theo Techspot
