Theo đúng lộ trình công bố gần 1 năm trước, Fujifilm vừa chính thức giới thiệu ống kính tele dành cho hệ máy X series XF55-200mmF3.5-4.8 R LM OIS. Đây là ống kính có khẩu độ lớn hơn một chút so với trung bình nhiều ống kính tele của các hệ máy khác (thường là f/4.-5.6 hay f/4.5-5.6), cho dải tiêu cự 84-305mm khi đổi trên kích thước khổ phim 35mm. Ống kính này hiện thời tương thích với hai thân máy Fujifilm X-Pro1 và X-E1. Chức năng ổn định hình ảnh quang học cho khả năng sử dụng tốc độ chụp chậm 4.5 stops, Hơn nữa, nó được cấu tạo bên trong 2 mô-tơ tuyến tính giúp khả năng lấy nét AF tốc độ cao 0.28 giây.
Các đặc tính khác của ống kính này bao gồm 2 thấu kính ED, bao gồm 1 thành phần Super ED có chất lượng tương đương với những kính fluorite; kiểm soát độ sai lệch màu sắc, thường xảy ra trên các ống kính tiêu cự dài, cho chất lượng hình ảnh cao đến từng góc cạnh trên toàn bộ dải zoom. Lớp phủ HT-EBC của FUJINON trên tất cả bề mặt ống kính để đạt được biện pháp phòng ngừa hữu hiệu đối với các hiện tượng phản chiếu, và kiểm soát hiện tượng flair và bóng mờ.
Cũng giống như phiên bản XF18-55mmF2.8-4, ống kính XF55-200mmF3.5-4.8 R LM OIS cũng có chức năng vòng khẩu độ bước 1/3EV giúp người sử dụng dễ dàng điều chỉnh khẩu độ trong khi vẫn đang để máy ngắm trên mắt. Vòng lấy nét và vòng khẩu độ được làm bằng thép và được thiết kế để mang lại cảm giác chất lượng cao, với nhiều tiện ích mạnh mẽ.
Bên cạnh đó, Fujifilm cũng chính thức công bố lộ trình các ống mới trên hệ máy X series. Qua đó các ống kính mới được chờ đợi bao gồm XF27mmF2.8, XF23mmF1.4 R, XF56mmF1.2 R và ống kính siêu rộng XF10-24mmF4 R OIS. Ngoài ra, Fujifilm cũng hợp tác với Carl Zeiss để tạo ra dòng ống kính dành riêng cho hệ máy X series gồm Planar T* 1.8/32, Distagon T* 2.8/12 và Makro-Planar T* 2.8/50 (ống kính macro). Carl Zeiss từng công bố dự án nào tại CP+ 2013, trong đó còn có cả dòng ống kính E-mount dành cho Alpha NEX.
Nguồn: Fujifilm VN