Dù có thể không phải là hãng đầu tiên trên thế giới sở hữu High-NA EUV, Samsung vẫn là công ty đầu tiên ở châu Á có được công nghệ bán dẫn mới nhất này.
Theo nguồn tin của Nhật báo Kinh tế Seoul, Samsung sẽ bắt đầu lắp đặt hệ thống High-NA (0.55) EUV đầu tiên vào cuối năm nay hoặc đầu 2025. Mặc dù cột mốc này đặt công ty Hàn Quốc chậm chân hơn Intel tới 1 năm nhưng so ra họ vẫn sớm hơn đối thủ đồng hương SK Hynix và tất nhiên là trước cả các công ty gia công chip Á Châu khác. Bên cạnh đó, Samsung còn hợp tác với các hãng bán dẫn khác để xây dựng một "hệ sinh thái" High-NA hoàn chỉnh chứ không "đơn thương độc mã".
Hệ thống High-NA EUV do ASML sản xuất
Theo nguồn tin của Nhật báo Kinh tế Seoul, Samsung sẽ bắt đầu lắp đặt hệ thống High-NA (0.55) EUV đầu tiên vào cuối năm nay hoặc đầu 2025. Mặc dù cột mốc này đặt công ty Hàn Quốc chậm chân hơn Intel tới 1 năm nhưng so ra họ vẫn sớm hơn đối thủ đồng hương SK Hynix và tất nhiên là trước cả các công ty gia công chip Á Châu khác. Bên cạnh đó, Samsung còn hợp tác với các hãng bán dẫn khác để xây dựng một "hệ sinh thái" High-NA hoàn chỉnh chứ không "đơn thương độc mã".
Intel đã sở hữu hệ thống High-NA EUV đầu tiên trên thế giới của ASML, điều đó có ý nghĩa gì?
Tuy chưa phải là hệ thống sản xuất wafer thương mại hoàn chỉnh nhưng Twinscan EXE:5000 đầu tiên trên thế giới đã thuộc sở hữu Intel, điều đó sẽ giúp “đội xanh” có ưu thế tiên phong trước các đối thủ khác trong việc "làm quen" với High-NA EUV.
tinhte.vn
Hệ thống High-NA EUV do ASML sản xuất
Hệ thống mà Samsung sẽ lắp đặt cũng cùng model Twinscan EXE:5000 do ASML sản xuất và giao cho Intel hồi năm ngoái, với cái giá "chát chúa" gần 400 triệu USD. Dự kiến nó sẽ được đặt tại khuôn viên Hwaseong. Song cũng giống như Intel, hệ thống High-NA này không được dùng để sản xuất công nghiệp (HVM) ngay mà chủ yếu phục vụ cho nghiên cứu (R&D). Theo lộ trình mà ASML vạch ra thì Twinscan EXE:5200 mới là model đáp ứng mục tiêu này, với sản lượng ước đạt 220 wafer/giờ. Nhưng model này còn ở thì tương lai, phải từ 2025 trở về sau ASML mới làm ra nó.
Lộ trình EUV của ASML
Trước mắt các kỹ sư Samsung sẽ "học" cách làm việc trên Twinscan EXE:5000. Họ sẽ thử-và-sai lần lượt để xem cỗ máy 0.55 NA khác gì 0.33 NA hiện đang được khai thác. Nguồn tin Digitimes cho biết Samsung đang hợp tác với cả Lasertec, JSR, Tokyo Electron (TEL) và Synopsys để chuẩn bị sẵn mọi thứ cho High-NA. TEL là công ty Nhật Bản nổi tiếng với các sản phẩm ăn mòn wafer (etching). JSR thì chuyên sản xuất lớp chặn quang (photoresist). Trong khi đó, Actis A300 của Lasertec là công cụ cần thiết để kiểm định lỗi (inspection) các tấm mask chứa bản vẽ của hàng tỷ transistor. Quan trọng hơn, khi chiều dài bước sóng càng ngắn hơn thì vấn đề giao thoa, nhiễu trở nên nặng nề hơn. Bộ công cụ thiết kế chip của Synopsys sẽ giúp Samsung chuyển đổi từ các mạch IC truyền thống sang các nét bo tròn riêng cho High-NA. Nhìn chung, sẽ có rất nhiều vấn đề khi cần làm trước khi đi vào sản xuất thực sự.
Người ta chế tạo chip bán dẫn - transistor - như thế nào?
Mấy ngày nghỉ Tết âm lịch 2024 mình vẫn làm việc với máy tính, chợt nghĩ ra là những món đồ công nghệ hiện tại mà chúng ta đang sử dụng, đa phần đều có liên quan đến bán dẫn. Transistor là thành phần hay có thể coi là đơn vị cơ bản hình thành nên…
tinhte.vn
Những công cụ cần thiết phải có để khai thác High-NA EUV
Với khẩu độ số học (NA) cao hơn thế hệ trước, 0.55 NA cho phép đạt độ phân giải chi tiết mạch điện ở mức 8 nm (lưu ý đây không phải tên node bán dẫn) chỉ với 1 lần phơi sáng, nhỏ hơn nhiều so với độ phân giải 13 nm của 0.33 NA. Đây là bước chuyển mình quan trọng giúp thu nhỏ kích thước transistor khoảng 1.7 lần, tức tăng gần gấp 3 lần mật độ transistor. Trên thực tế 0.33 NA cũng có thể đạt độ phân giải tương tự nhưng nó sẽ yêu cầu thời gian phơi sáng lâu hơn cũng như phải áp dụng phơi sáng tới 2 lần (DP), mà về lâu dài sẽ "không ổn" cả về chi phí sản xuất lẫn sản lượng đáp ứng.
TSMC dường như 'không vội vã' với các hệ thống High-NA EUV của ASML, tại sao vậy?
Một trong các điểm nhấn công nghệ bán dẫn thời gian qua là việc Intel nhận được hệ thống High-NA EUV (0.55 NA) đầu tiên trên thế giới, vốn sẽ cho phép việc sản xuất các con chip 2 nm và nhỏ hơn dễ dàng hơn.
tinhte.vn
Quảng cáo
Trước mắt, Samsung và Intel sẽ là 2 công ty đầu tiên "đặt chân" lên "mảnh đất" High-NA này. Công ty Mỹ dự kiến sẽ áp dụng High-NA vào tiến trình Intel 14A. Riêng TSMC về ngắn hạn có lẽ vẫn tận dụng 0.33 NA EUV để làm ra các transistor nhỏ hơn, kết hợp việc áp dụng DP triệt để.
